氨氣純化裝置產品特點：

● 原理簡單，結構合理，能(neng)耗低

● 氣體指標穩定，雜質含量低
● 可選配自動系統，實現無人值守
● 與氨分(fen)解裝(zhuang)置(zhi)配套使用，亦可用于其(qi)它氣體的變溫吸附(fu)干燥(zao)

氨氣純化裝置技術指標：

● 壓力—— 0.1~ 0.5Mpa(跟(gen)進需求壓力可調節(jie))

● 常(chang)壓露點——≤－60℃

● 處理氣量—— 3~ 500Nm3/hr

     利用分(fen)子(zi)篩在不(bu)同(tong)溫度下對水吸(xi)附量不(bu)同(tong)的(de)(de)原(yuan)理，通(tong)過常溫工(gong)作，加熱再生得到(dao)干燥(zao)的(de)(de)氨(an)(an)氣。生產高純氨(an)(an)的(de)(de)基本原(yuan)理是是以工(gong)業一(yi)(yi)等(deng)品液氨(an)(an)(液氨(an)(an)等(deng)級劃分(fen)見表(biao)2)為原(yuan)料，利用各種純化凈化手(shou)段生產高純氨(an)(an)。采用的(de)(de)純化方(fang)法視工(gong)業氨(an)(an)中所含(han)雜質的(de)(de)種類、數量、性質和(he)(he)其最終所要(yao)達到(dao)的(de)(de)純度而定。一(yi)(yi)般(ban)氨(an)(an)中雜質的(de)(de)種類和(he)(he)數量主要(yao)有(you)：油份、烴類、H20、02、Ar、N2、H2、CO和(he)(he)CO2等(deng)。

      純(chun)化(hua)(hua)(hua)技術:對應(ying)用于(yu)半導體(ti)(ti)領域(yu)的高(gao)(gao)純(chun)氣體(ti)(ti)純(chun)度要(yao)求*,特(te)別是影響半導體(ti)(ti)材料(liao)(liao)生(sheng)長的氧(yang)、水以及其它(ta)雜質(zhi)含量(liang)必須達到ppm-ppb級.我(wo)們針(zhen)對原料(liao)(liao)氣體(ti)(ti)的雜質(zhi)含量(liang)、理化(hua)(hua)(hua)性質(zhi),以高(gao)(gao)效(xiao)吸附和高(gao)(gao)效(xiao)精餾為主要(yao)純(chun)化(hua)(hua)(hua)方法(fa)，重(zhong)點選擇選擇性好、吸附容量(liang)大、純(chun)化(hua)(hua)(hua)深度高(gao)(gao)的新型吸附劑、高(gao)(gao)性能催(cui)化(hua)(hua)(hua)劑，具有吸附和催(cui)化(hua)(hua)(hua)兩(liang)種功能，雜質(zhi)脫除達到使用要(yao)求。本工藝特(te)別宜于(yu)規模化(hua)(hua)(hua)生(sheng)產。